而另一个重要因素，是三星使用了更厚的氟化氪光刻胶，通常情况下一次工艺形成 1 层涂层，而使用更厚的光刻胶，三星可以一次形成多个层，从而提高工艺效率。

　　不过更厚的光刻胶在生产中也有挑战，由于光刻胶具有高粘度，会在涂层时会导致均匀性问题。

　　三星与长期合作伙伴东进半导体化学公司自 2013 年起就密切合作，共同研发高性能光刻胶。东进半导体一直是三星 KrF 光刻胶的独家供应商，为三星第 7 代和第 8 代3D NAND 提供了关键材料。

　　消息称从第 9 代 3D NAND 开始，三星将全面应用这项新技术，这一创新举措不仅提高了生产效率，更将为三星节省每年数十亿韩元的巨额成本。

　　同时也意味着东进半导体将面临来自三星的订单减少，东进半导体目前每年从光刻胶业务中获得约 2500 亿韩元收入，其中 60% 来自三星。