公司经营范围包括：一般项目：技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广，电子专用设备制造，电子专用设备销售，半导体器件专用设备制造，半导体器件专用设备销售，机械零件、零部件加工，机械零件、零部件销售，销售代理，非居住房地产租赁（除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法自主开展经营活动）等。

　　拓荆科技是一家从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务的企业，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个系列。

　　其中，细分领域薄膜沉积设备行业呈现出高度垄断的竞争局面，行业基本由应用材料（AMAT）、ASMI、泛林半导体（Lam）、东京电子（TEL）等国际巨头垄断。以2019年为例，ALD设备龙头东京电子（TEL）和先晶半导体（ASMI）分别占据了全球31%和29%的市场份额；而应用材料（AMAT）则基本垄断了PVD市场，占85%的比重；在CVD 市场中，应用材料（AMAT）、泛林半导体（Lam）和 TEL三大厂商占据了全球70%的市场份额。