佳能在当地时间 7 月 30 日为一家位于栃木县宇都宫市的半导体光刻设备工厂举行开业仪式，这也是佳能宇都宫工厂总建筑面积为 67518 平方米，总投资额约 500 亿日元，投产后佳能的

　　▲ 佳能 KrF 光刻机

　　佳能宇都宫工厂不制造 EUV、ArF 等较为先进的光刻设备，而