了解到，ArF光刻胶材料是半导体制造的关键材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。此前我国国产光刻胶主要集中在中低端产品，但是用于精密工艺的ArF光刻胶一直以来被国外厂商垄断。根据南大光电此前公告，ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内IC行业的快速发展，自主创新和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。