国产最先进光刻机

　　第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标。这是荷兰ASML实现的。

　　而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的。其中，制造光源的设备来自美国公司；镜片，则是

　　第二，中国进口最先进的光刻机，是7nm。

　　2018年，中芯国际向荷兰ASML公司定制了一台7nm工艺的EUV光刻机，当时预交了1.2亿美元的定金。请注意，当时这台机器还没有交付，而是下订单。

　　但国内市场上，其实已经有7nm光刻机。在2018年12月，SK海力士无锡工厂进口了中国首台7nm光刻机。海力士也是ASML的股东之一。

　　第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm。

　　根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米。

　　请注意该报道的标题：“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收。”

　　也就是22nm的光刻机，已经是重大突破。

　　22nm的光刻机，关键部件已经基本上实现了国产化。“中科院光电所此次通过验收的表面等离子体超分辨光刻装备，打破了传统路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权。”

　　有关报道中的“全新的技术”，也就是中国科研工

　　中国和世界顶尖光刻机制造还有很大差距。

　　华为麒麟受制于人，中芯国际不堪大用，澎湃芯片久不见进展，虎愤芯片勉强能用。

　　实用更是有很远的路要走。

　　大家放平心态。

　　顶级的euv光刻机价格极高，它的市场却为何还供不应求？

　　随着经济的飞速腾飞，国内的科技公司对于芯片的的需求激增，人们开始了解到光刻机这种设备。人们或许会奇怪为什么一些公司能够设计出高档的芯片，例如华为的麒麟芯片的性能不输高通的骁龙芯片，却无法自己生产而需要代工。这里涉及到一种“卡脖子”技术——光刻机。下面讨论一下光刻机市场供不应求的原因。

　　EUV光刻又叫做极紫外光刻，生产技术难度大，经济成本高，而高性能的芯片由需要使用EUV光刻机进行生产。有数据显示显示，荷兰ASML公司2019年仅仅出货26太光刻机，一台EUV光刻机的价格大概在1.2亿美元左右。高性能的光刻机在运输、安装调试方面会花许多时间，尽管市场供不应求，但是为了保证生产效果，运输安装、调试运行所花费的时间、经济成本大，不能做到效果手机电脑等消费品那样大量生产。

　　另一个原因是EUV光刻机的生产用到了许多美国的专利，因此一台光刻机能够成功出售还需要获得美国的授权许可。而总所周知，我国在这一类高性能的技术方面一直被美国封锁。国内目前还无法生产商用的EUV光刻机，对于引进外国的先进的光刻机需求迫切，奈何美国在这一方面的限制使得国内市场对EUV光刻机供不应求。

　　鉴于我国实际的EUV生产状态和国外技术的封锁，可想而知，EUV光刻机在我国市场是供不应求的。EUV光刻机可以看作是一种限制他国的技术手段，长期引进也不是一条长远的道路，为了国家在这方面高端技术有一席之地，科研人员仍然需要努力奋斗，在外国的封锁中走出属于自己的一条路。

　　零件超过10万个的光刻机，一台造价多少？

　　造价未知，但一台顶级的光刻机造价购买价格在十亿元左右。其中零件超过十万个，并且，制造一台这样的光刻机所需要的技术，连美国日本都做不到，全球现如今只有荷兰能够做到。

　　1、光刻机是干啥的

　　现如今，芯片记载了一切东西，拥有芯片技术，象征着你在科技市场的地位，设计师所设计的程序需要记录在芯片中，将它记录在芯片上就需要光刻机来进行刻录，喜欢玩电脑玩手机的爱好者都知道，芯片非常的小，上面有非常细小且密密麻麻的纹路，这种刻录看似简单，但要想达到这样的技术需要超高的水准，我国现如今在多个行业都蓬勃发展，但在光刻机上，落后的技术不仅仅是几十年，类似高考700分和350分的区别，这下就知道有多难了吧。

　　2、光刻机技术以及难题

　　一台光刻机内含的零件超过十万个，螺栓数量可达四万个，三千根以上的粗电线，合计两公里长度的短软管，以及不计其数的零件，很多人可能不了解光刻机，越是做这种精细运算的工具，它的重量就越重，一台顶级光刻机的重量，可高达18万千克。

　　现如今我国面临的最大光刻机技术难题，就是难以突破他的精细程度，我国现如今最高的技术不过90nm，但海外的光刻机已可达7nm，这种核心技术只掌握在几个国家之中，有人可能有疑问，90nm的不能用吗？为什么一定要数值越小越好，芯片之中包含着许许多多的晶体管，这些晶体管如果越精密，那么芯片的性能和计算能力就会越强。拿价格来进行对比，顶级的光刻机一台可以在10亿元左右，而中国的顶级光刻机价格也不过两三亿，这之中需要突破的，不是靠时间就可以解决的难题。

　　据2019年的数据显示，我国光是芯片进口所需的金额就超过了3000亿美元，因为凭借中国暂时的技术，完全生产不出如此高质量的芯片，芯片的发展和中国的发展息息相关，但是关口基础成为了一个最大的难题，如果想要快速发展5G技术，那么对于芯片的质量就会非常的高，我国现如今最高的芯片生产技术，只能达到14nm，而且才刚刚开始，可三星集团现如今已可达7nm。 

　　除此以外还有一个非常现实的问题，全球都在订购荷兰AS M L公司的光刻机，可是我们国家在订购起来，就没有那么的简单，瓦纳森协议对于中国购买光刻机非常的限制，购买光刻机只能买最新技术的落后两代，所以中国现在也在积极努力的自主研发制造光刻机和芯片技术，国家的大力支持，相信总有一天，我们也能占据主导地位，占据高端市场的绝对份额。

　　光刻机最先进的是多少纳米

　　是90纳米。

　　查询可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米。但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作。

　　而且即将推出3纳米工艺制作的芯片。但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付。尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车。

　　相关介绍：

　　光刻机目前一直处于垄断地位，在光刻机领域，最有名的就要提到ASML公司了，它是一家荷兰的公司。最初光刻机领域比较厉害的两个国家是荷兰和日本，而在2017年之后，ASML联合台积电推出了光源浸没式系统开始，将日本企业甩开距离，从此稳坐头把交椅的宝座。技术一直处于垄断地位。

　　一台顶级的光刻机需要各种顶级的零件支持，而这些零件大部分都来自西方的国家。而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制。前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。