目前中国最先进的光刻机（国产28nm光刻机进展）

　　;     在新能源飞速发展和产品智能化的大背景下，高科技进入蓬勃发展阶段，所有高科技产品最不可或缺的核心部件就是芯片了。作为以智能手机为主要业务的

　　      华为

　　      ，对芯片的需求量更是巨大。

　　      大家都知道生产芯片最重要的器械就是

　　      光刻机

　　      ，但由于受到来自

　　      漂亮国

　　      的制约，“实体清单”规则被修改后，

　　      ASML

　　      因为生产光刻机的技术有一部分来自于漂亮国，受此影响，连带着芯片代工厂也无法为华为公司提供芯片代工服务。

　　      华为现在最先进的芯片是采用台积电5nm工艺制作的

　　      麒麟9000芯片

　　      ，但随着“限制令”的制约，

　　      麒麟9000

　　      芯片的库存正在一天一天减少，在无法获得5G芯片的情况下，华为只能采用

　　      高通

　　      的4G芯片，没有

　　      5G

　　      芯片的支持，华为的5G手机只能当成4G来用，也因此，华为的手机业务受到了重创。

　　      事实上，不仅是华为，我国其他高科技企业现在都处于“缺芯”状态。如果要解决“缺芯”难题，首先我们就要解决光刻机的自产自研问题。

　　中科院

　　      立功了

　　      为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长光所、上光所联合光电研究院在2009年，启动了“高NA浸没光学系统关键技术研究”，进行高端光刻机的攻坚。该项目于2017年在长春国科精密验收，曝光光学系统研发核心的骨干人员也在同年间转入长春国科精密继续钻研光刻机技术难题。

　　      在此之后，国望光学引入

　　      中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

　　      ，以及

　　      上海光学精密机械研究所

　　      推动国产光刻机核心部件生产。在2016年，国望光学研发出90nm节点的ArF投影光刻机曝光光学系统，之后将继续向28nm节点ArF浸没式光刻曝光学系统研发进攻。

　　      长春国科经济在2018年也传来好消息，攻克了高NA浸没光学系统的关键技术研究。这也是我国实现完全拥有自主知识产权的高端光刻机曝光光学系统的标志。这些成就的达成都离不开中科院的技术支持，可以说中科院立了大功了。

　　      为什么要花费那么大的精力去研发曝光光学系统?这对光刻机的制造很重要吗?这我们就要从光刻机的工作原理说起了。光刻机又叫掩模对准曝光机，它的工作原理简单地说类似于照片冲印的技术。

　　      光刻的过程就是在制作好的硅圆晶表面涂上一层光刻胶，然后通过紫外线或深紫外线透过

　　      掩膜

　　      版，把上面的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，在

　　      光刻胶

　　      的覆盖下，这些被光线照射到的部分会被腐蚀掉，而没有被照射到的部分就会被保留下来，形成我们所需要的电路结构。所以曝光系统可以说是光刻机的核心组成之一。

　　国产光刻机正式传来好消息

　　      根据国望光学在发出的公示，

　　      投影光刻机曝光光学系统将应用于28nm芯片的批量生产当中。

　　      在这之前，我国只能制造出用于90nm制程的光刻机，但随着这两项技术的突破，我国对于28nm光刻机制程实现了突破性的进展。

　　      28nm芯片有着比90nm芯片更加优越的性能，用途也更加广泛，尤其是对于新能源产业，如新能源汽车或者智能家居产业填补了对于28nm芯片缺失的空缺。

　　      此外，根据媒体消息，上海微电子也做出披露，在2021到2022年将会交付出第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这表明我国完全能实现28nm芯片自由。拥有完整的知识产权和自主产业链，就无畏海外市场在芯片上对我们“卡脖子”了。

　　      虽然28nm芯片已经能满足大部分的生产需求，但是对于华为这些手机厂商和其他一些国产芯片来说，28nm的精度还是不够用的，接下来我国的下一步目标便是进行5nm制程光刻机的攻克，手机对于芯片的精度要求要更高，所以目前我国还是不能停下研发的脚步。

　　      虽然目前我国还没研发出5nm制程的光刻机，但已经可以制造出5nm制程的刻蚀机了，这对于我国芯片发展也是一个鼓励性的好消息。

　　      成果是喜人的，但如果拿来与世界上最先进的7nm制程光刻机比的话还是远远不够的，国产化光刻机的道路还要走很远。

　　如何看待爆料上海微电子明年将交付28nm光刻机一事?是否属实？

　　对于28nm光刻机事件有着不少的质疑声，怀疑会不会是骗钱项目。目前消息并没有被证实。

　　老美对华为的芯片封锁，让国内大批网友开始持续关注国内芯片行业的发展。希望华为能够顺利渡过难关的同时，也希望我国的芯片技术能够快速壮大和发展，把高科技技术产业的命脉掌握在自己手里。

　　近日网上爆出荷兰阿斯麦将停止向中国出售可以生产28nm的EUV光刻机的消息，毫无疑问这是阿斯麦在被老美威逼利诱下作出的决定。

　　事实上，高新技术产业迅速发展下的中国对于28nm芯片的需求量十分巨大，这让阿斯麦始终把中国作为重要的大客户，来自中国的的订单在阿斯麦的营收中占有相当大的比重，而切断与中国的合作这对于阿斯麦来说无疑是“自断一臂”的做法。

　　曾表示虽然国内目前有许多企业已经掌握了比较成熟的28nm制作技术，但是在光刻机的研发制作方面技术还不够成熟，短期内国产光刻机的产能无法满足国内市场的需求。

　　用于28nm芯片生产的国产光刻机已经通过验收，这意味着什么？

　　提及芯片，就不得不说光刻机，由于其生产制造芯片的必需机器设备，全世界范畴内，ASML的光刻机技术更为优秀。

　　据了解，ASML产品研发生产制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎攻占了中高档销售市场，尤其是EUV光刻机，从出货迄今，仍是一机难寻，缘故是生产制造7nm下列芯片离不了它。

　　尽管ASML的光刻机很受大家喜爱，但ASML的却不可以随意出货，依据ASML公布的信息得知，在美生产制造的DUV光刻机在并没有批准的情形下，是不可随意出货的。EUV光刻机在并没有批准的情形下，更不可以随意出货，乃至向外资企业中国生产基地出货也遭受管束。

　　在那样的情形下，ASML一直都在想办法完成随意出货，其不但多次确立指出要在中国内地销售市场增加合理布局，扩张研发中心经营规模，基本建设售后服务中心，还需要向中国给予其能提供的一切技术。

　　关键是，ASML还对外开放扩张光刻机的生产能力，预估未来五年生产制造115台，并扩张坐落于新加坡的生产流水线，乃至还学习培训高通往美传出了警示。

　　近日，ASML的最新动态宣布传出，其官方宣布项目投资2亿美金扩张在美丽的加工厂。都了解，高通芯片、tsmc等生产商不可以随意出货，便是由于美改动标准，这也是tsmc没有在美基本建设大量的厂子的首要因素之一。

　　现如今，ASML却项目投资2亿美金扩张在美加工厂经营规模，这代表着中国工程院院士说得没有错，关键技术务必独立把握。

　　尽管ASML多次就随意出货作出了确立表态发言，但中国工程院院士得话，也该高度重视起来了。就现在来讲，中国厂家在光刻机技术等领域也完成了好几个提升。

　　资料显示，上海微电子技术的开发生产制造的光刻机攻占了中国八成销售市场，其产品研发生产制造的封装机攻占全世界四成的销售市场。

　　近些年，芯片测试设备也变成芯片生产流水线的必须品，愈来愈多的生产商逐渐选购。日前，中国生产商上海积塔半导体还选购了几台上海微电子技术的测试设备，用以芯片生产流水线中。

　　此外，在灯源技术层面，中国生产商已经熟练掌握了深紫外线源技术，ASML的DUV光刻机应用该便是该技术，并变成全世界把握该技术的三大公司之一。

　　与此同时，光源系统生产制造产业基地新项目已经逐渐招标会基本建设，这代表着中国已经方案大批量生产制造光源系统，为光刻机批量生产制造做准备。

　　在电子光学透膜及其双光透镜等层面，中国科研院所也产品研发出来优秀的双光透镜技术，为优秀光刻机应用的双光透镜技术奠定了基本。

　　也有信息称，国内优秀光刻机可能在今年底退出，其可以用以生产制造28nm到10nm等制造的芯片，加快28nm、14nm等芯片全方位国内生产制造的。

　　自然，除开光刻机外，华为公司等中国生产商也很早合理布局下一代芯片——光学芯片，该芯片可以在技术上彻底避开美技术，并且，华为公司在光学芯片行业内已经属于引领者。

　　与此同时，华为公司还根据公司旗下的哈勃持续项目投资中国有关芯片全产业链，目地便是在芯片行业内完成全方位提升。

　　芯片制造专用的前道国产光刻机现在进展情况如何了？是不是连28NM都没有突破？

　　最近半导体领域之中传来了两个好消息，首先就是华为旗下的哈勃投资了北京科益虹源光电技术公司，并且成为了这家企业的第七大股东。北京科益虹源主营业务是光源系统，而光源系统就是制造光刻机的核心技术之一。同时，北京科益虹源也是全球第三家193纳米ARF准备分子激光器企业。

　　第二个好消息是，国产光刻机巨头上海微电子目前已经表示，新一代的光刻机会在今年年底或者是明年年初实现量产，而在光源系统之中，采用了与阿斯麦DUV光刻机一样的光源技术，波长突破了193纳米。这就意味着国产代工企业将在今年或者是明年年底就能够实现7纳米工艺的代工水平，并且是在没有阿斯麦光刻机的情况之下。

　　可以说光刻机领域之中接连传来这两个好消息，对于我们而言，对于国产芯片未来的发展而言，起到了一定推促的促进作用，毕竟一直以来在光刻机领域之中，荷兰的阿斯麦占据绝对的垄断地位，尤其是在极紫外光刻机领域之中，更是处于绝对垄断的地位。

　　而国内在芯片上的短板就是因为缺少极紫外光刻机，所以导致中国企业没有办法生产出7纳米以及5纳米这样先进制程工艺的芯片。2018年，中芯国际曾经从阿斯麦买订购过一台euv光刻机，但是说到瓦森纳协定的影响，阿斯麦至今都没有出货这台EUV光刻机

　　后面中兴以及华为的限制使得国内科技企业自主研发的意识被彻底唤醒，于是在这样的情况之下，所有的国内厂商将希望全部中寄托在了中国光刻机企业身上。为了解决这一难题，华为在第一时间就宣布扎根半导体领域，另外，中科院也宣布入局光刻机，并且将光刻机变成科研清单。

　　好在伴随着时间的推移，如今一个又一个的好消息传来。关于光刻机的两个好消息传来，意味着中国心再次迎来了春天。而这对于阿斯麦来讲当然不是什么好事情。

　　北大教授曾经说过这样一句话，如果中国依旧拿不到阿斯麦的光刻机，那么在三年之后，中国就将会掌握这项技术，并且一旦中国掌握了这项技术，那么其生产的产本成本一定比任何一个国家都要便宜。

　　北大教授的这一番话，可以说对于阿斯麦来讲，更是一个重磅炸弹，失去中国市场的阿斯买强会面临地位的威胁，如今日本的尼康以及佳能正在不断崛起，挑战这阿斯麦所在的地位，如果中国真的掌握了光刻机技术，那么阿斯麦想要在进入国内市场基本上没有可能，更不要提凭借中国市场稳固其地位的梦想了。

　　光刻机的问题解决了，那么芯片的问题自然也就不是问题了。早在芯片禁令实施之初，张召忠就曾经公开表示，再过三年，美国的芯片将会无人购买，因为到那个时候，中国的芯片将会到处都是。

　　如今看起来，张召忠果然没有说错，相信过不了多久，我们在芯片领域也一定会迎来一定的突破，中国芯片在未来一定会拥有更好的发展，而对中国企业实行打压的硅谷，在将来也一定会尝到失去中国市场的苦果。

　　热点早解读：28nm光刻机有消息了。不管前途几何，都不能放弃

　　 一、热点消息

　　 今年，我国半导体产业已有不少好消息陆续传出。

　　 被提及最多的光刻设备方面，近来有消息称上海微电子即将于

　　 2021年交付首台国产的 28nm 光刻机。

　　 再来看，之前的美国的制裁吧：

　　 5月12日，美国半导体制造商LAM、AMAT等公司发布函件，要求中国的军用产品代工厂不得使用美国半导体来生产军用集成电路，同时启用“无限追溯”；5月15日，美国商务部产业安全局将华为及其在“实体清单”上的关联公司的临时通用许可证延期了90日，要求华为设备使用商者尽快寻找替代商。

　　 二、形势不容乐观，但是28nm够用么？

　　 很多人默默地打开了自己刚刚购买的新电脑

　　 查看配置，处理器选项。

　　 什么！才28nm，老子的锐龙处理器都7nm了，

　　 停停停，先听我说完

　　 或许在许多人看来28nm制程工艺相比7nm还相差甚远，

　　 但实际上是一个分界点，

　　 像是物联网、家电、通信、交通、航空航天等领域，已能满足

　　 那就是满足了市场上的大部分需求。

　　 从2019年全球晶圆代工产能分布，

　　 包括我国每年进口的3000亿美元芯片中也可以看到，

　　 28nm以上制程才是主流。

　　 所以，这意味着

　　 一旦完全掌握28nm芯片制造技术，我们很大程度上就能满足国内发展所需。

　　 现在知道了吧，这比自己玩得爽的手机、电脑可不一样。

　　 三、我们的芯片大多来自哪里？

　　 1、我们拿货真多，却不能自给

　　 根据第三方数据，仅2019年我国的芯片进口额就突破千亿美元，

　　 作为全球最大的芯片进口国。

　　 但是，我国每年的芯片自给率却不足30%。

　　 2、谁掌控了这芯片

　　 为了改善这一局面，不少企业投身芯片行业，但在芯片制造领域却很难有突破，

　　 其中，最最主要的拦路虎，就是大BOSS“光刻机”

　　 而在光刻机领域，荷兰ASML是当之无愧的巨头。

　　 在华为被接连的芯片被动挨打中，他们俩的名号也算了普及到很多人了。

　　 全球范围内能够生产出高端芯片的光刻机，只有荷兰ASML ，

　　 大家记住哈~它是唯一的，

　　 而且还每年限制产能，所以想给谁，想多少钱给，它说的算。

　　 四、我们得自己造呀

　　 1、放心，已经再造了

　　 今天只说他们家。

　　 好在，经过十余年的发展后，我国在光刻机领域也诞生了一位新巨头。

　　 上海微电子装备有限公司，2002年开始生产研发光刻机

　　 在短短18年里，他们创下了3200项专利，

　　 成功打破技术封锁，造出中国最先进的光刻机，

　　 目前，已经实现90nm光刻机的量产。

　　 哎！反正你们看不上，

　　 那不如我再多说一点。

　　 2、那什么水平？

　　 只相当于荷兰ASML15年前的水平！

　　 但是，

　　 ASML光刻机的技术虽然先进，但集结了以美国为首的多国结晶，

　　 例如美国的光学设备、德国的蔡司镜头。

　　 多达5万多零部件，也大多依赖进口。

　　 上海微电子，生产的光刻机设备却是自主研发和创新。

　　 民族热情高涨，来点掌声！

　　 3、怎么解读这28nm

　　 对内：政府的扶持（列入国家863重大 科技 攻关计划，国家重大 科技 专项02的项目之一），

　　 对外：《瓦森纳协定》对华高 科技 出口管制。

　　 与ASML的众星捧月不可同日而语。

　　 公司高层在接受采访时表示：

　　 “2007年，当光刻机的第一束光曝出来时，我们都热泪盈眶。”

　　 “没有人才团队，没有技术积累，没有配套的供应链。

　　 西方国家对这一技术限制很多。”

　　 目前，团队还在超1000个技术与管理人才的共同努力下，全力追赶ASML，

　　 而光刻机制造对资金以及技术积累要求苛刻，请多给一点时间！

　　 虽然即便是28nm技术。

　　 但倘若28nm沉浸式光刻机可顺利交付，

　　 这将把我们的芯片事业推进到一个崭新的高度。

　　 未来可期，未来可待！

　　为什么我们造不出光刻机？去买一台别人的，然后拆开，看看是什么零件造的，仿制一台不就行了吗？

　　光刻机对于芯片生产的重要性不言而喻，为攻克芯片卡脖难题，国内掀起一股自研光刻机的热潮。殊不知，光刻机，尤其是EUV光刻机的制造难度，已经超乎绝大部分人想象。

　　

　　公开图纸也不怕山寨

　　在全球光刻机市场，ASML无疑是霸主般的存在。针对奇特企业仿制ASML光刻机的问题，ASML总裁Wennink曾公开回应，高端的EUV光刻机永远不可能被模仿。

　　此前ASML甚至还放出豪言，称即使把图纸公开，也不怕EUV光刻机被山寨！这不禁令人疑问，EUV光刻机到底有多难制造？ASML又何来的自信？

　　

　　要知道，生产EUV光刻机需要依赖的并不是单一的技术，而是需要各学科和应用工程的交叉。作为半导体领域最为复杂的核心设备之一，EUV光刻机有超过10万个零件，纵使是行业霸主ASML，也需要数千家公司提供帮助。

　　因此，EUV光刻机的自主研发，绝不是国内半导体领域在短时间内可以攻克的难题。而ASML多年积累的系统集成优势，也是其可以不畏惧公开图纸的主要原因。

　　

　　中国院士实话实说

　　芯片国产化大潮之下，关乎攻克芯片生产核心设备呼声越来越高，光刻机自然也位列其中。在国内，关于是否要投入大量资源研发EUV光刻机的讨论一直都在。

　　在2021数博会上，吴汉明院士专门针对此事发声，表示仅靠一个国家就生产EUV光刻机的想法并不现实，这无疑给国内不少自研EUV光刻机的支持者“泼了冷水”。

　　

　　不过笔者却认为，吴汉明院士所说属于事实。EUV光刻机的每一个零部件，都已经达到了行业内的顶尖水平，比如美企提供的光源、德企提供的光学系统等，仅凑齐这些业内顶级资源，便已是难上加难。

　　且EUV光刻机的研发需要较长的周期，国内的技术水平、人才储备等本就与国际巨头有着较大差距，冒然进行EUV光刻机的研发，也只能撞个头破血流。

　　

　　因此，脚踏实地、循序渐进才是国产光刻机实现进步的主要途径。目前，上海微电子已经在着手研发28nm光刻机。

　　虽然28nm光刻机与ASML最新设计的1nm光刻机有较大差距，但在国内企业不断扩产成熟工艺制程的今天，中低端光刻机研发的稳打稳扎，或许更具意义。

　　随着上海微电子等国内企业的持续努力，国产光刻机的性能将不断提升，在高端领域取得突破也不是不可能。