日本先进半导体制造商 Rapidus 的会长东哲郎本月 11 日在 SEMICON Japan 展会开幕式上致辞时表示对该企业的 2nm 试产线充满信心。

　　东哲郎提到：“EUV 光刻设备将于本月开始交付工厂。另外还有 200 余台设备将陆续运抵。”“按照 Rapidus 的规划，在完成试产后该企业目标到 2027 年 4 月实现 2nm 工艺的量产；此前 Rapidus 表示正同 40 多家潜在客户进行谈判。

　　▲ Rapidus 晶圆厂概念图