三星电子正与应用材料合作，以降低其 4nm 工艺中 EUV 光刻的用量。

　　三星正在 4nm 制程上评估应用材料的 Centura Sculpta 系统，以缩短工艺流程，降低成本。

　　该系统于去年初发布，实现了一项名为图案塑形的新功能。

　　▲应用材料 Centura Sculpta 图案塑形系统

　　图案塑形可以精确定向修改晶圆特征图形的尺寸，增强 EUV 图案化性能，减少最关键图层的图案化次数，进而实现功率、性能、面积、成本和上市时间的改进。

　　应用材料宣称，Centura Sculpta 系统可在每片晶圆上节约 50 美元的制造成本，并减少能源和水资源的消耗以及二氧化碳的排放。