华为技术有限公司于11月15日公布了一项与光刻技术相关的专利，专利申请号为5X。据悉，该专利申请提供一种反射镜、光刻装置及其控制方法，涉及光学领域，能够解决相干光因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，在极紫外光的光刻装置基础上进行了优化，进而达到匀光的目的，进而解决了相关技术中因相干光形成固定的干涉图样而无法匀光的问题。