三星冲击高端代工新挑战:削减 High-NA EUV 光刻机
三星原本计划在未来 10 年内,采购 Twinscan EXE:5200、EXE:5400 和 EXE:5600 三款后续 Twinscan EXE:5000 High-NA 光刻机,而最新报道称三星已经通知 ASML,不仅削减 Twinscan EXE:5000 系列 EUV 光刻机采购数量,而且后续仅采购 EXE:5200。
报道称这一决定是在副董事长 Jun Young-hyun 被任命为 DS部门的新负责人,并重新审查正在进行的项目和投资之后做出的。
一位熟悉情况的业内人士说:
在京畿道华城购买土地建造研究设施的过程以及设计和审批过程都在进行中,然而,随着三星决定减少设备引进,相关进程已完全停止。 联合研究中心是否会在其他地方建立,或者建立本身是否会被取消,将在今后的讨论中决定。