三星将于 2024 年第 4 季度至 2025 年第 1 季度期间，三星已经购买了 Lasertec 的 High-NA EUV 掩膜检测工具 Actis A300。

　　三星电子半导体研究所的 Min Cheol-ki 博士在 2024 年光刻与图案化研讨会上表示：“与传统的 [EUV 专用工具] 相比，使用 [High-NA EUV 专用工具] 检测半导体掩膜可将对比度提高 30% 以上”。

　　报道还称三星还与光刻胶制造商 JSR 和蚀刻机制造商东京电子公司合作，准备在 2027 年之前将高纳 EUV 工具投入商业应用。

　　三星还与新思科技合作，在光掩膜上从传统的电路设计转向曲线图案。这一转变有望提高电路压印在晶片上的精度，这对进一步完善工艺技术至关重要。