荷兰半导体制造设备巨头 ASML 宣布 High-NA Twinscan EXE 光刻机的价格约为 英特尔目前已经采购了 ASML 的 High-NA EUV 设置，并且在 4 月 19 日宣布首台设备商用 High NA EUV 光刻机组装。

　　▲ 张晓强博士在中表示，台积电 A16 先进工艺节点不一定要使用 ASML 的 High-NA EUV 设置，可以继续使用现有的旧款 EUV 设备完成，他表示：“我认为现阶段 EUV 设备有能力有办法支持 A16”。

　　张晓强博士表示至于何时使用 ASML 的最新技术，将取决于何时最具成本效益，而且还要平衡台积电能达成的技术。