三星正在考虑在其下一代 DRAM 极紫外光刻工艺中

　　注：MOR 被业内认为是下一代光刻胶，会接棒目前先进芯片光刻中的化学放大胶。CAR 在 PR 分辨率、抗蚀刻性和线边缘粗糙度方面已经无法完全满足未来光刻的需求。

　　三星正考虑在第 6 代 10 纳米 DRAM中使用 MOR，主要在六层或七层上使用 EUV PR，相关产品将于今年下半年投入生产。

　　消息称三星正计划向多家供应商采购 EUV MOR 光刻胶材料，除了 Inpria 之外杜邦、东进半导体、三星 SDI 等都在测试开发。