英特尔高级副总裁安妮・凯莱赫近日出席 SPIE 2024 会议，透露 Intel 14A 工艺节点的性能功耗比，

　　凯莱赫表示 Intel 14A 工艺率先使用 High-NA EUV 光刻技术，因此晶体管逻辑密度比 Intel 18A 提高了 20%。

　　英特尔公司正在积极推进 IDM 2.0 战略，希望在 2030 年之前超越三星，重新夺回代工行业的领先地位，目前总订单规模超过 150 亿美元。英特尔公司此前发布公告，已经和微软公司达成合作，采用 Intel 18A 工艺为其生产芯片。