如何看待爆料上海微电子明年将交付28nm光刻机一事?是否属实？

　　对于28nm光刻机事件有着不少的质疑声，怀疑会不会是骗钱项目。目前消息并没有被证实。

　　老美对华为的芯片封锁，让国内大批网友开始持续关注国内芯片行业的发展。希望华为能够顺利渡过难关的同时，也希望我国的芯片技术能够快速壮大和发展，把高科技技术产业的命脉掌握在自己手里。

　　近日网上爆出荷兰阿斯麦将停止向中国出售可以生产28nm的EUV光刻机的消息，毫无疑问这是阿斯麦在被老美威逼利诱下作出的决定。

　　事实上，高新技术产业迅速发展下的中国对于28nm芯片的需求量十分巨大，这让阿斯麦始终把中国作为重要的大客户，来自中国的的订单在阿斯麦的营收中占有相当大的比重，而切断与中国的合作这对于阿斯麦来说无疑是“自断一臂”的做法。

　　曾表示虽然国内目前有许多企业已经掌握了比较成熟的28nm制作技术，但是在光刻机的研发制作方面技术还不够成熟，短期内国产光刻机的产能无法满足国内市场的需求。

　　国产最新光刻机多少纳米（中国首台28nm光刻机问世）

　　;     国产芯中国“芯”!如果没有华为在通信科技领域的异军突起直接威胁到西方发达国家的核心利益，美国也不会如此丧心病狂的用一个国家的力量对付一个企业，当然我们老百姓也不会去关注芯片这个原本属于科技领域的事情。如今在中国的大街小巷和餐馆排挡，要说什么话题最火，那莫过于“华为5G”和“芯片”这两个话题了。

　　      人们除了惊讶于我国的科技水平居然已经达到了这种地步的时候，也在为我国什么时候才能突破高端芯片的技术封锁而着急。毕竟我们很多人都知道，我国在错过了第一次、第二次工业革命之后，就落后挨打了两百多年的时间，所以每人都都很清楚下一波工业革命的重要性。恰好华为5G的全球领先让我们看到了中国不仅能够赶上第四次工业革命，甚至很大程度上还有引领第四次工业革命的可能，每个人都兴奋不已。

　　      但是目前，我们不得不认识到我国在半导体集成电路方面还和西方发达国家及企业有着不小的差距。在这个节骨眼上，偏偏美国又开始歇斯底里的打击中国科技企业，企图拖慢整个中国的半导体领域发展进程，因此我们很着急，我国何时才能突破芯片的技术封锁?

　　      当然，着急是不解决任何问题的，如果着急有用的话，还要那些科研工

　　      比如我国现有享誉世界的北斗全球定位导航卫星，其中所用的三号芯片现在已经成功的打破了22nm的上限，上海微电子也在当前大背景下加班加点的研制出了能够生产22nm的光刻机。这个消息让全国的科技圈都十分的振奋。

　　      国产光刻机突破22纳米，差距还很大，为啥科研人员如此兴奋?

　　      有不明所以的网友会比较好奇，现在全球最顶尖的芯片是5nm制程技术，甚至连3nm制程的也已经在研发设计中，为什么我们才刚刚到22nm就让国内科研人员异常兴奋?原因其实很简单，打个比方在你极度饥饿的时候，别说给你一桌山珍海味了，就是给你一个平淡无奇的白面馒头你都能吃的津津有味!

　　      在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

　　      与此同时，西方发达国家的硅基芯片的制造已经接近了物理极限，“摩尔定律”正在逐渐的失效，我国的芯片技术又在不断的突围。此消彼长之下，我国芯片制造能力追平世界领先水平也只是时间问题而已，更何况我国也在同步研究更加具有竞争力的“碳基芯片”，如果一旦研制成功，我们甚至都不需要再依赖光刻机，那么西方国家的封锁手段也会随之土崩瓦解。

　　      所以，我们不能只是干着急，对于我国的芯片领域发展，还是要充满信心的。

　　上海微电子能生产nm28纳米光刻机呜?

　　据DIGITIMES报道，上海微电子有望在2021年四季度交付第二代深紫外光（DEV）光刻机，该设备可使用28纳米工艺生产芯片，并使用国产和日本组件，为国内半导体产业摆脱对美国依赖迈出的重要一步。

　　但据说也只是据说，能不能交付，交付以后能不能量产，量产以后良品率如何都是未知数，恐怕没有几年磨合是达不到盈利水平的。

　　用于28nm芯片生产的国产光刻机已经通过验收，这意味着什么？

　　提及芯片，就不得不说光刻机，由于其生产制造芯片的必需机器设备，全世界范畴内，ASML的光刻机技术更为优秀。

　　据了解，ASML产品研发生产制造的DUV光刻机和EUV光刻机几乎攻占了中高档销售市场，尤其是EUV光刻机，从出货迄今，仍是一机难寻，缘故是生产制造7nm下列芯片离不了它。

　　尽管ASML的光刻机很受大家喜爱，但ASML的却不可以随意出货，依据ASML公布的信息得知，在美生产制造的DUV光刻机在并没有批准的情形下，是不可随意出货的。EUV光刻机在并没有批准的情形下，更不可以随意出货，乃至向外资企业中国生产基地出货也遭受管束。

　　在那样的情形下，ASML一直都在想办法完成随意出货，其不但多次确立指出要在中国内地销售市场增加合理布局，扩张研发中心经营规模，基本建设售后服务中心，还需要向中国给予其能提供的一切技术。

　　关键是，ASML还对外开放扩张光刻机的生产能力，预估未来五年生产制造115台，并扩张坐落于新加坡的生产流水线，乃至还学习培训高通往美传出了警示。

　　近日，ASML的最新动态宣布传出，其官方宣布项目投资2亿美金扩张在美丽的加工厂。都了解，高通芯片、tsmc等生产商不可以随意出货，便是由于美改动标准，这也是tsmc没有在美基本建设大量的厂子的首要因素之一。

　　现如今，ASML却项目投资2亿美金扩张在美加工厂经营规模，这代表着中国工程院院士说得没有错，关键技术务必独立把握。

　　尽管ASML多次就随意出货作出了确立表态发言，但中国工程院院士得话，也该高度重视起来了。就现在来讲，中国厂家在光刻机技术等领域也完成了好几个提升。

　　资料显示，上海微电子技术的开发生产制造的光刻机攻占了中国八成销售市场，其产品研发生产制造的封装机攻占全世界四成的销售市场。

　　近些年，芯片测试设备也变成芯片生产流水线的必须品，愈来愈多的生产商逐渐选购。日前，中国生产商上海积塔半导体还选购了几台上海微电子技术的测试设备，用以芯片生产流水线中。

　　此外，在灯源技术层面，中国生产商已经熟练掌握了深紫外线源技术，ASML的DUV光刻机应用该便是该技术，并变成全世界把握该技术的三大公司之一。

　　与此同时，光源系统生产制造产业基地新项目已经逐渐招标会基本建设，这代表着中国已经方案大批量生产制造光源系统，为光刻机批量生产制造做准备。

　　在电子光学透膜及其双光透镜等层面，中国科研院所也产品研发出来优秀的双光透镜技术，为优秀光刻机应用的双光透镜技术奠定了基本。

　　也有信息称，国内优秀光刻机可能在今年底退出，其可以用以生产制造28nm到10nm等制造的芯片，加快28nm、14nm等芯片全方位国内生产制造的。

　　自然，除开光刻机外，华为公司等中国生产商也很早合理布局下一代芯片——光学芯片，该芯片可以在技术上彻底避开美技术，并且，华为公司在光学芯片行业内已经属于引领者。

　　与此同时，华为公司还根据公司旗下的哈勃持续项目投资中国有关芯片全产业链，目地便是在芯片行业内完成全方位提升。

　　弹丸小国？为啥它可以造出全世界最先进的光刻机

　　 芯片、芯片还是芯片，最近因为芯片技术封锁的相关话题热度一直不减。据路透社援引消息报道，特朗普政府正在考虑是否将中国最大的芯片制造商中芯国际列入贸易黑名单，以加大对中企的打击力度。

　　 华为消费者业务CEO余承东也曾表示，华为没办法生产芯片，在全球化过程中只做了设计是教训。没错，现在没有一家国内企业可以担负起生产制造高端芯片的任务，为什么生产芯片这么难？追根溯源还是离不开高端光刻机。

　　 然而你或许不知道，因为郁金香而闻名世界的荷兰，却能生产世界上最顶级的光刻机。荷兰的ASML在光刻机市场上占据了80%的份额，其制造的EUV光刻机售价高达1亿美元一台，而且还不一定可以拿到货。甚至连美国，日本都也达不到荷兰在高端光刻机上的技术水平。为什么我国目前还制造不出高端光刻机？荷兰的ASML又是怎么做到的？

　　 众所周知，无论是苹果A14芯片还是华为麒麟9000芯片，都需要台积电代工生产，而用于制造这类高端芯片就离不开极紫外（EUV）光刻机，而目前也仅有荷兰ASML一家可提供可供量产用的EUV光刻机。

　　 提及荷兰ASML公司大多数人都不了解，但你一定听说过大名鼎鼎的飞利浦，而飞利浦正是ASML的前身。在飞利浦开始踏足晶体管和集成电路后，先后发明了CCDs和LOCOs，为晶体管和集成电路上的突破奠定了基础。

　　 飞利浦

　　 1984年，飞利浦当时面临经营困境，不得不实施大规模裁员，ASML也是在那一年从飞利浦独立出来。众所周知，飞利浦旗下的家电、照明产品，在行业内都是数一数二的，其百年的制造基因在ASML身上也得到了传承，而ASML专注于芯片制造业后，便迅速成长为了该领域的强者。

　　 为什么美国任其做大却不制裁？

　　 其实在20世纪90年代到21世纪初，日本的尼康、佳能光刻机技术是世界领先的，ASML也难以匹敌。ASML知道仅靠一已之力是不可能和日本光刻机相抗衡，所以，它联合全球知名的光刻机核心零部件厂商，让它们成为ASML的公司股东。这样不仅将利益捆绑在了一起，而且背后也有了资金支撑。

　　 当时美国也在打压日本半导体行业，碍于美国光刻机制造商确实不占优势，再三考虑后，决定扶持同属于西方国家的荷兰企业ASML，但美国也提出了要求，就是ASML设备里至少55%的部件要采购美企的。

　　 如此一来，ASML获得了大量美国本土的光刻机研发及生产的人才，加上雄厚的资金，在光刻机领域，荷兰ASML逐渐开始变得遥遥领先。聚拢了全球光刻机领域的优势资源，ASML即消灭了潜在的竞争对手，也站稳了高端光刻机市场的霸主地位。

　　 看到这里我们也就理解了，美国任其做大却不制裁与其本身的利益有关，毕竟它不会傻到搬起石头砸自己的脚。

　　 有人说技术被封锁，难道凭我们自己的技术就造不出吗？其实，哪怕是荷兰ASML也不可能仅靠自己就能造出高端光刻机。因为这不是光靠砸钱就能解决的，它涉及了全球的供应链体系，光刻机这样的精密仪器，缺少任何一个组件和环节都不行。

　　 要知道，一台光刻机重量就可达180吨，内部零件多达10万个，其中主要零部件来自于欧美几十个发达国家。荷兰的光刻机德国提供蔡司镜头设备，日本提供特殊复合材料，瑞典提供工业精密机床，美国提供控制软件等等。

　　 一台光刻机内部零件多达10万个 零部件来自不同国家

　　 一台光刻机汇集了全世界各国的顶尖技术，而且任何一个国家都不能包揽全部技术。

　　 目前行业里最先进的EUV光刻机，其制造的整个过程都需要数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术，而技术离不开人才。

　　 对于留住人才，ASML有自己的一套制度。公司由发展技术型、管理型和项目型人才组成，其中最看重技术型人才，ASML会给技术型人才很大的话语权。

　　 不同于其他 科技 公司一样，ASML不会让管理型人才完全主导公司发展。公司的首席技术官甚至能够和首席执行官平起平坐，这样的组织架构放眼整个行业都是罕见的，所以从制度上我们就可以看出ASML对技术人才的看重。

　　 ASML的组织架构图（

　　 有了制度上的保障，相关的从业者也就可以专心于技术创新，而这样的良性循环也会让公司聚拢更多的人才。

　　 留住人才，创造专利。数据显示，2019年ASML就已经取得了关于EUV的12000个相关专利，这在当时超过了日本尼康和佳能的总和。从人才管理到全球产业链的利益捆绑，荷兰ASML慢慢确立了在高端光刻机的霸主地位。

　　 高端光刻机不是一个国家能在短时间内造出来的，因为它汇聚了全球最顶尖的技术和人类的智慧。有国外工程师曾说到：“一个零件我调整了10年”。因此，ASML总裁Peter Wennink曾表示，高端的EUV光刻机永远不可能被中国模仿，况且中国在知识产权领域有相关的规定。

　　 那么，中国可以生产光刻机吗？有消息称，中国最强的光刻机生产商上海微电子已经攻破了28nm光刻机，虽然比起荷兰ASML高端光刻机，我们还有很大的差距。但没有28nm，就不可能有后开的5nm。最重要的是，它是我们完全独立自主研究的，其意义可想而知。

　　 荷兰ASML的发展之路，给我们带来了启示。首先，技术是第一生产力，有实力就是最好的话语权。在高端光刻机领域，我们需要关键技术去做利益捆绑，让这个行业离不开我们。这样我们才会有筹码去谈判。

　　 ASML深知利益通过机制进行捆绑，才能建立最有效的合作方式。所以像台积电、英特尔等其他公司想要获得优先供货权，就要作为客户要先投资ASML。

　　 其次，人才的重要性不言而喻。除了培养该领域的人才，我们也需要不断加大人才引进的力度，去做好知识产权保护、企业扶持等举措，给人才建立能醉心于技术研究的良好环境。

　　 最后，就是资金投入。光刻机的研发实在是太烧钱，起初ASML差点支撑不住，好在荷兰政府的支持，以及三星、英特尔、台积电等企业的投资，ASML才有了今天的地位。即使现在它处于第一，每年还会拿出巨额资金到研发上。2019年，它们就拿出了20亿美元作为研发经费，其占营收的16.7%。所以说，利润全球第一的公司在研发投入上第一是不矛盾的。

　　 技术封锁并不会打垮我们，我们会继续保持开放，没有退路就是胜利之路。最后我们引用近期大火的电视剧《平凡的荣耀》中，主人公孙弈秋所说的话：未到终局，焉知生死。

　　 (7520195)

　　目前中国最先进的光刻机（国产28nm光刻机进展）

　　;     在新能源飞速发展和产品智能化的大背景下，高科技进入蓬勃发展阶段，所有高科技产品最不可或缺的核心部件就是芯片了。作为以智能手机为主要业务的

　　      华为

　　      ，对芯片的需求量更是巨大。

　　      大家都知道生产芯片最重要的器械就是

　　      光刻机

　　      ，但由于受到来自

　　      漂亮国

　　      的制约，“实体清单”规则被修改后，

　　      ASML

　　      因为生产光刻机的技术有一部分来自于漂亮国，受此影响，连带着芯片代工厂也无法为华为公司提供芯片代工服务。

　　      华为现在最先进的芯片是采用台积电5nm工艺制作的

　　      麒麟9000芯片

　　      ，但随着“限制令”的制约，

　　      麒麟9000

　　      芯片的库存正在一天一天减少，在无法获得5G芯片的情况下，华为只能采用

　　      高通

　　      的4G芯片，没有

　　      5G

　　      芯片的支持，华为的5G手机只能当成4G来用，也因此，华为的手机业务受到了重创。

　　      事实上，不仅是华为，我国其他高科技企业现在都处于“缺芯”状态。如果要解决“缺芯”难题，首先我们就要解决光刻机的自产自研问题。

　　中科院

　　      立功了

　　      为了实现我国高端光刻机的国产化，中科院长光所、上光所联合光电研究院在2009年，启动了“高NA浸没光学系统关键技术研究”，进行高端光刻机的攻坚。该项目于2017年在长春国科精密验收，曝光光学系统研发核心的骨干人员也在同年间转入长春国科精密继续钻研光刻机技术难题。

　　      在此之后，国望光学引入

　　      中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

　　      ，以及

　　      上海光学精密机械研究所

　　      推动国产光刻机核心部件生产。在2016年，国望光学研发出90nm节点的ArF投影光刻机曝光光学系统，之后将继续向28nm节点ArF浸没式光刻曝光学系统研发进攻。

　　      长春国科经济在2018年也传来好消息，攻克了高NA浸没光学系统的关键技术研究。这也是我国实现完全拥有自主知识产权的高端光刻机曝光光学系统的标志。这些成就的达成都离不开中科院的技术支持，可以说中科院立了大功了。

　　      为什么要花费那么大的精力去研发曝光光学系统?这对光刻机的制造很重要吗?这我们就要从光刻机的工作原理说起了。光刻机又叫掩模对准曝光机，它的工作原理简单地说类似于照片冲印的技术。

　　      光刻的过程就是在制作好的硅圆晶表面涂上一层光刻胶，然后通过紫外线或深紫外线透过

　　      掩膜

　　      版，把上面的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，在

　　      光刻胶

　　      的覆盖下，这些被光线照射到的部分会被腐蚀掉，而没有被照射到的部分就会被保留下来，形成我们所需要的电路结构。所以曝光系统可以说是光刻机的核心组成之一。

　　国产光刻机正式传来好消息

　　      根据国望光学在发出的公示，

　　      投影光刻机曝光光学系统将应用于28nm芯片的批量生产当中。

　　      在这之前，我国只能制造出用于90nm制程的光刻机，但随着这两项技术的突破，我国对于28nm光刻机制程实现了突破性的进展。

　　      28nm芯片有着比90nm芯片更加优越的性能，用途也更加广泛，尤其是对于新能源产业，如新能源汽车或者智能家居产业填补了对于28nm芯片缺失的空缺。

　　      此外，根据媒体消息，上海微电子也做出披露，在2021到2022年将会交付出第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。这表明我国完全能实现28nm芯片自由。拥有完整的知识产权和自主产业链，就无畏海外市场在芯片上对我们“卡脖子”了。

　　      虽然28nm芯片已经能满足大部分的生产需求，但是对于华为这些手机厂商和其他一些国产芯片来说，28nm的精度还是不够用的，接下来我国的下一步目标便是进行5nm制程光刻机的攻克，手机对于芯片的精度要求要更高，所以目前我国还是不能停下研发的脚步。

　　      虽然目前我国还没研发出5nm制程的光刻机，但已经可以制造出5nm制程的刻蚀机了，这对于我国芯片发展也是一个鼓励性的好消息。

　　      成果是喜人的，但如果拿来与世界上最先进的7nm制程光刻机比的话还是远远不够的，国产化光刻机的道路还要走很远。