南大光电193nm光刻胶何时投产(南大光电193光刻胶何时投产)

2022-10-11 13:42:50

  南大光电︱第三代半导体龙头,竟买了一个大包袱?

   屈原在他的代表作十万个为什么《天问》中问道:交错而生的阴阳宇宙,其本源与演化究竟如何?都说天有九重,又有谁去度量?(“阴阳三合,何本何化?圜则九重,孰营度之?”)。

   大约2300年后,名为“天问”的中国行星探测任务启动。“天问一号”火星探测器飞向苍茫宇宙,将于明年二月抵达火星。火星当然不是终点,但是在迈向更远星空的旅途上,比如——太阳。

   一、踩上风口,关于材料的美好前景

   宇宙中有许多太阳(恒星),离它们越近温度就越高,辐射就越强,远远超出一二代半导体的承受极限,所以目前探测器去不了离太阳们太近的地方。因为探测器也需要芯片,因此对于半导体基础材料的要求更高。

   于是, 耐高温、耐高频、抗辐射 又 适应大功率 的第三代半导体闪亮登场了。

   半导体一二三代主要以材料区分:

   【第一代】:主要用硅和锗,是目前绝大部分器件的原料;

   【第二代】:砷化镓和磷化镓成为4G通讯设备的主流;

   【第三代】:以氮化镓、碳化硅、氧化锌和金刚石等为代表,尤其是碳化硅和氮化镓各擅胜场。其中 碳化硅 耐高温耐高压,主要用于千伏级别如电动车、高铁或工业用途。 氮化镓 主要用于中压(约600伏)产品。虽然与硅材料有部分重叠,但良好的移动性特别适合高频率场景,所以在 基站 、 5G通讯 等场景占优。

   半导体性能越来越强,对材料的要求自然水涨船高。为了能生产第三代半导体材料,上世纪60年代末,一种把 金属有机化合物 气化,在高温反应室里发生化学反应得到相应材料的技术—— MOCVD ,成为了主流技术。用于这种技术的金属有机化合物统称 MO源 。全世界MO源供应商有4家玩儿得最大,对岸3家我国1家。中国这家就是南大光电(300346)。其主要产品纯度都做到了6N(99.9999%)级,而且与许多用户有深度合作,竞争态势不错。

   摘自《南大光电2020年半年报》

   中国拥有世界上已探明镓储量的绝大部分,公司未来很可能成为全球 三甲 基镓 龙头。三甲基镓是制备氮化镓的必需原料,所以三代半导体这个风口,南大光电算是踩中了。

   另一方面,由于三代半导体还处于起步阶段,公司的MO源目前主要用于LED行业。LED这些年竞争不断加剧,所以公司MO源产品的 毛利率有所下滑 ,但整体上还是不错的。

   摘自《南大光电2020年半年报》

   不过公司特气产品 毛利下滑 十分严重,这是另一个故事了……

   二、有钱任性,关于收购的悲伤故事

   在MOCVD技术中,MO源进入反应室需要与高纯超净特种气体,也就是 高纯电子特气 混合。这种气体不但重要,纯度和洁净度直接影响加工精度,而且用量很大,是用量仅次于硅片的半导体材料。公司的磷烷、砷烷气体纯净度都做到了6N级别,是国内LED行业主要的气体供应商,在电子行业也有进展,硅烷、硼烷已经准备投放市场。特气比MO源的利润丰厚很多,去年上半年公司 特气产品毛利率高达60.76% ,简直高得不像制造业!

   明星业务急转直下,源自一场有钱任性的并购。

   去年8月5日,公司公告拟出资2.5亿收购山东飞源气体57.97%的股权, 溢价率高达235% !

   摘自《南大光电取得飞源气体57.97%股权的公告》

   这个收购案的诡异之处在于飞源气体2019年7月才由山东飞源 科技 有限公司通过分立方式设立,其提交的财务文件中2017和2018年 财务报告均是模拟数据 ,两年分别亏损0.3亿和0.2亿,2019年前7个月又亏损近千万。可以说,南大是高溢价收购了别人还没做起来的业务自己做。

   公告一出,深交所发了《关注函》,连发九问要求公司说明收购的合理性。公司答得头头是道,最终于去年11月底完成了收购。

   任性收购的恶果从去年底开始显现。公司各项费用飙升,利润大幅下滑,直到今年上半年仍没有改善的迹象。公司扣除非经常损益的 净利润骤减87.74% , 经营现金流萎缩260.60% ,由正转负。橙哥估计,买来的这部分业务还亏着。

   摘自《南大光电2020年半年报》

   这里面要说一下的是研发费用。根据半年报,上半年公司研发投入增长40%,如果属实的话那说明公司 大部分研发投入已经符合资本化条件 ,所以计入费用的部分不增反减,这也符合公司不断有新产品进入市场的现状。

   但是飙升数倍的销售费用和管理费用告诉我们,公司的销售并不顺畅,对收购资产的整合也远没有完成。

   三、结语

   上半年,南大光电193nm高端光刻胶项目(可用于90-14nm技术节点集成电路制造)顺利投产并开始进行客户验证。公司另一高端材料ALD前驱体也具备量产能力并实现小规模销售。近日,公司公告收购杜邦公司19项新型硅前驱体技术资产包,继续增厚技术储备。综合来看,南大光电基础不错,核心产品有积淀,新业务发展也不错。但是一次任性的收购无异于给自己买了一个大包袱,何时卸下这副重担,年报或许有答案。

   注:本文不构成投资建议,股市有风险,投资需谨慎,没有买卖就没有伤害。

  南大光电4项业务:MO源、光刻胶、电子特气、ALD前驱体产品

   为了写完光刻胶的研究任务,挑了南大光电, 本文写完的时候也是一个月前,一直放到草稿箱里到今天才发 ,所以一些信息可能没更新(比如南大光电的光刻胶通过的客户认证)。

   公司的主营业务主要有MO源、光刻胶、电子特气、ALD前驱体产品。

   我想此刻我们的心情是一样的。

   为了了解这2个英文字母+1个汉字,估计我得对各个概念如剥笋般层层研究。首先看MO源,即“高纯金属有机源”,是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料,在半导体照明、信息通讯、航天等领域有极重要的作用。公司2010年在国内MO源的市场份额60%,全球15%。

   它的下游客户,带“光电”二字的公司很多,可以进一步了解到,这个东西应该主要应用于光电子行业,如LED和太阳能电池。

   好了,虽然不知道这个东西,但至少可以了解到它是做半导体的某种核心基本材料,看样子是不可或缺的。而且公司是这一块的绝对龙头(都60%市占率了还能说啥?)。

   MO源“是利用先进的金属有机化学气相沉积(以下简称‘MOCVD’)工艺生成化合物半导体材料的关键支撑原材料,因而又被称为MOCVD的‘前体物’。MO源的质量直接决定了最终器件的性能,因此MOCVD工艺对MO源的质量要求很高,其中纯度是衡量MO源质量的关键指标。”

   气相沉积不难理解,我个人通俗理解是,用化学气体或蒸汽附在材料上,形成一个涂层。化合物半导体就是之前我在《三安光电年报解读》中讲到的SiC、GaN之类。所以我对MO源这句话的通俗理解就是:为了做出SiC之类的第三代半导体,你得用上气相沉积(MOCVD)工艺,那为了用好这个工艺,你得用上高纯度的MO源。

   MO源有60多种,三甲基镓和三甲基铟是最主要的两种MO源,其中又以三甲基镓的用量最大,使用比例在80%左右,三甲基铟使用比例平均不超过10%。

   招股书继续写道:

   看到这里林北清楚多了:三安、乾照等LED外延片供应商,使用的是MOCVD技术,把MO源上的原材料附着在衬底上,外延生长出化合物半导体,也就是我们常说的LED外延片。事实上,90%以上的MO源都被用于生产LED外延片。所以,对MO源市场前景的判断,关键就看LED的市场前景,而其需求又和MOCVD设备直接相关。

   话虽如此,往后的报表却很不乐观。LED后来进入产能过剩阶段,MO源价格也跟着讲,毛利也从80%陆续下降到70%、60%、50%,其中用量最大的三甲基镓的毛利率更是从上市前最高70%掉到6%。

   即电子特种气体,号称半导体生产过程中的“粮食”。具体可以看一下林北写过的《华特气体年报解读》。

   公司于2013年成立了全椒南大材料,2016年才完成高纯磷烷、砷烷产品的产线年直接并购山东飞源,又获得了三氟化氮、六氟化硫的生产能力。特气业务增长迅速,17年开始每年营业额是3600万、7800万、1.64亿,已经比MO源还多,毛利率也稳定在50%左右。

   特气这个行业不太好理解,主要是气体太多太杂,各个环节要用到的气体也不一样。在《华特气体年报解读》一文中,林北明确表示对特气公司只看不投,因为真的不懂。

   2016年公司参股了北京科华微电子材料有限公司,经过笔者研究,北京科华应该是目前国内技术实力最强的光刻胶企业,唯一一家通过了EUV光刻胶“02专项”研发。但是现在在北京科华的工商信息上,看不到南大光电了,记录显示是2019年初转让掉的。

   2018年,“193nm光刻胶及配套材料关键技术开发项目”和“ArF光刻胶开发和产业化项目”获得国家02专项的正式立项,获得中央财政拨款1.3亿。公司新设了光刻胶事业部,成立“宁波南大光电材料有限公司”。

   总而言之,公司虽然有光刻胶的概念,但并没有实际开展业务,而且充满不确定性。不像晶瑞股份等是从g线、i线开始做,而是一上来就搞ArF,而且都处在“专项科研”阶段。

   说它是业务有点勉强,它是公司16年和 科技 部签订的一个研究项目“ALD金属有机前驱体产品的开发和安全离子注入产品开发”。前驱体就是一个东西之前的形态,就像暴龙兽之前是亚古兽,再之前是滚球兽一样,额,这是我的理解。

   ALD即原子层沉积,前面讲到气相沉积,就相当于给衬底烘一层蒸汽让物质附在上面,而ALD更厉害,直接以单原子膜的形式一层一层地附在上面。ALD懂了,前驱体懂了,ALD前驱体是什么,抱歉,我还没看懂。

   南大光电是一家典型的高 科技 公司,所以林北只研究了它的行业,用来辅助最近的光刻胶行业调查任务,并没有对财务进行分析。总而言之,南大光电之前做MO源,但最近这门生意好惨。为了走出困境,公司积极布局电子特气行业,经过3年努力,特气的业务已经超过了老业务MO源。

   然后是我关心的光刻胶行业,作为南大的校企(大股东南京大学资产经营有限公司),公司也理所当然地能拿到国家科研专项任务,一上来就高举高打研发ArF光刻胶,这可是中国目前没有办法供应的产品,同样还在研发的还有北京科华和容大感光。当然,所有这些公司都还在研发中,还没有一家投放市场,接着光刻胶的概念,好几年股价震荡的南大光电迎来大涨。

   2019年1月,南大光电卖掉了北京科华的股份,价值1.7亿,获得了近2000万投资收益,占利润总额的28.87%,多好的一只母鸡就这么被卖掉了,现在公司多了一家技术NB的竞争者。但笔者不是公司高管,对此举不好评论。

  盘点未来3年净利超500%的5大半导体黑马,中国向半导体强国冲刺

  随着台积电等晶圆厂龙头开启新一轮扩产周期、技术升级、晶圆产能向大陆转移以及国内政策的大力支持,我国半导体设备及材料市场将迎来新一轮上升周期。国内5大半导体龙头,有望充分受益。

  总市值:80亿

   华特气体成立于1999年,主营气体及气体设备的研发和生产,产品广泛覆盖工业气体、电子工业用气体及医用气体等十几个领域,其中,电子特气已覆盖国内80%的半导体客户。业务覆盖全球50多个国家和地区,是国内最大的特种气体及相关设备供应商之一。

   得益于公司近二十年的技术深耕,华特气体目前不仅已获得授权专利87项,参与制定国家标准28项,更凭借过硬的技术实力打入包括中芯、德州仪器、海力士等国内外半导体巨头。率先打破了尖端领域气体材料进口制约,实现了国产替代。

   正因此,华特气体得以在2020年取得净利同比提升45.3%,毛利率连续第六年高于行业平均的骄人成绩。而 随着公司持续对欧洲、日本等发达经济体业务的拓展,以及对新型材料的研发投入的加大,华特气体未来发展可期。

  总市值:117亿

   至纯 科技 成立于2000年,主要业务为高纯工艺系统与高纯工艺设备的设计、加工制造、安装以及配套工程、检测、厂务托管、标定和维护保养等增值服务,是国内清洗设备龙头。

   目前,至纯已经实现中高端单片和槽式清洗设备的研发。其中,自主研发的8寸和12寸湿法设备已相继获得中芯、万国、德州仪器、燕东、华润等行业龙头的青睐。而受益于晶圆厂建厂潮以及半导体工艺的更新迭代所带动的新增需求, 相关机构预计,至纯 科技 未来3年业务增速有望达到48%。

   总市值:138亿

   安集 科技 成立于2007年,主营关键半导体材料的研发和产业化,核心为CMP抛光液和光刻胶去除剂,广泛应用于集成电路制造和先进封装领域,全球市占率约2.4%。是国内CMP抛光液龙头。

   那么何为CMP抛光液?CMP抛光液广泛应用于半导体领域。由于其具有很高的技术门槛,曾长期被美国和日本企业垄断。

   而为了打破国外垄断,安集 科技 从一开始便投入到抛光液的研发中,截止2018年,公司不仅获得发明专利190项,更成为国内唯一一家能够提供12英寸IC抛光液的供应商,实现了进口替代,使中国在该领域拥有了自主供应能力。

   综合来看,公司CMP抛光液技术处于国际领先水平,光刻胶去除技术整体处于国内领先水平。而 随着公司与中芯国际、台积电、华润微等5大巨头客户合作的深化,业绩有望进一步增厚。

   总市值:139亿

   南大光电成立于2000年12月,是全球主要的MO源生产商。2014年,南大光电MO全球市占率达到28.1%,一举超越陶氏化学和默克集团等化工巨头,成为全球第一MO源生产商。

   能取得这个成绩,可谓意义重大。由于MO源在化合物半导体和航天领域具有重要战略意义,因此多年被西方国家实施严厉出口限制。而得益于南大光电在此项研究上取得的突破,不仅相继获得了中芯国际、京东方等龙头企业的青睐,更使得中国成为除美国、欧洲、日本外,全球第四个拥有MO源生产能力的国家。

   而随着自主研发的ArF光刻胶产品在2020年底通过市场认证,使得南大光电在半导体前段材料领域的业务拼图得到进一步完善。 而在国产替代大潮来袭的背景下,八哥认为南大光电有望在未来几年实现年产25吨193nm光刻胶产品的生产规模。

  总市值:328亿

   雅克 科技 成立于1997年,主营电子半导体材料、深冷复合材料以及塑料助剂材料的研发和生产。不仅是为战略新兴产业进行配套、解决国内战略新兴材料卡脖子的型公司。更是国内半导体材料巨头。

   得益于其在深冷复合材料以及塑料助剂材料两大领域全球领先的技术实力,雅克 科技 不仅先后打入以航空、航天和航海为代表的高端装备制备市场。更在2018年通过外延并购,成功切入半导体封装材料领域。目前在半导体材料业务的盈利能力已明显高于原有主业。最近3年的毛利率始终高于行业平均。

   整体来看,八哥认为雅克 科技 的赛道、技术、客户优势尽显、产业护城河持续拓宽,将在国内半导体产业、显示产业持续成长的大背景下,乘国产替代之风崛起。

  国产光刻胶成功突破,粉碎日本垄断梦

   近日,半导体领域迎来重磅消息,南大光电的ArF光刻胶取得突破,国产光刻胶终于来了!

   南大光电光刻胶突破

   早在5月30日,南大光电就已经发布公告称,公司自主研发的ArF光刻胶产品通过客户认证,具备55nm工艺要求。

   7月2日,有报道称,南大光电的ArF光刻胶产品目前已经拿到了小批量订单。

   这都在表明,国产光刻胶终于不再受制于人,而是实现国产化了。

   芯片在制造过程中,除了硅这种主要材料之外,一些辅助材料也至关重要,其中有一种名为光刻胶的材料,在芯片制造过程中必不可少,然而,这个材料却长期被日本垄断,中国也在这方面一直被卡脖子。

   而最近传出的一个消息,对我国半导体的发展非常不利,日本对中国供应的光刻胶出现了“断供”的现象。美国召开G7峰会后,日本宣布光刻胶断供中国,日本信越化学等光刻胶企业开始限制供应ArF光刻胶产品。

   断供光刻胶,对半导体行业的人而言并不陌生,2019年日韩贸易冲突白热化,日本就断供了光刻胶,导致当时全球最大的芯片厂商三星陷入了困境之中。

   虽然韩国积极向日本低头求和并开展自救,但芯片生产依然受到巨大影响,间接推动了2020年的芯片短缺。

   巧妇难为无米之炊,没有了光刻胶,对于中国的晶圆厂而言是巨大的打击,芯片生产将被迫停止!

   好在,光刻胶的国产化进程并不慢,日企断供短短半年时间,南大光电就已经将国产光刻胶投入市场中了。

   南大光电,成立于2000年12月,是以南京大学国家863计划研究成果作为技术支持的中国高纯金属有机化合物MO源的产业化基地。

   1986年,863计划启动,在高济宇院士的支持和指导下,学者孙祥祯牵头进行MO源的技术攻关。MO源是一种禁运物资,更是生产化合物半导体的源头材料,对我国国防安全、高 科技 民族工业有重要意义。

   历经重重困难,孙祥祯带领的课题组终于研制出了纯度大于5.5N的多个品种的MO源,全面向国内近20家研究单位供货,缓解了我国对MO源的急求。

   这项工艺不仅促进了国防工业的发展,更为国内化合物半导体材料的发展奠定了原始的基础。

   孙祥祯退休后,带领年轻人创立了南大光电,注册资本3770万元,生产拥有自主知识产权的高纯金属有机化合物,是国内唯一实现MO源产业化的企业,公司的技术主要

   公司主要产品有三甲基镓,三甲基铟,三甲基铝,二茂镁等十几种MO源,在产品的合成、纯化、分析、封装、储运及安全操作等方面已达到国际先进水平,产品远销日本、韩国、欧洲市场,并占有大陆70%的市场份额。

   作为国内唯一将半导体光学原材料实现量产的企业,南大光电对于光刻胶可以说十分熟悉,也是最有可能突破光刻胶技术的企业。

   中国半导体在崛起

   光刻胶到底是做什么用的?

   芯片生产过程中,需要用光学材料将数以万计的电路刻在小小的7nm的芯片上,而这种辅助的光学材料,就是光刻胶。

   在光刻胶领域,材料主要分为四种,分别为g线、i线、KrF、ArF光刻胶,半导体工艺越高,光刻机的精度越高,照射的光线频率越高,波长越短。

   光刻胶的分辨率会随着光线频率的改变而不断变化,基本的演进路线nm) i线nm) EUV(

   其中,ArF光刻胶的制造难度是最高的,这也是14nm/7nm芯片制造过程中不可或缺的原材料。

   芯片的工艺也分等级,平板电脑、 汽车 芯片等工艺水平并不高,这各等级的芯片中国已经实现了从光刻机到芯片的完全自主化生产。线nm的芯片,也就是华为遭到断供的手机芯片。

   这种工艺的手机芯片,不仅需要荷兰ASML先进的EVU光刻机来生产,更需要高端的光刻胶作为辅助材料,以及大量的芯片原材料,才能成功生产出华为手机所需要的芯片。

   光刻机被美国和荷兰的公司垄断,现在EVU光刻机对中国处于断供状态,中芯国际花了12亿购买的EVU光刻机至今仍未到货;

   芯片原材料,虽然国内已有部分原材料实现自主生产,但是硅片、光掩模、电子特气、抛光材料、溅射靶材、光刻胶以及湿电子化学品这其中原材料完全依赖进口。

   在全球光刻胶市场,日本东京应化,JSR,住友化学,信越化学等企业,掌握了全球半导体光刻胶市场的90%左右份额,几乎是垄断的状态。

   方正证券的报告显示,中国大陆企业在全球光刻胶领域占有率不到13%,在半导体光刻胶领域更是不足5%,完全被日本卡了脖子!

   但是,进入2021年以后,中国半导体行业国产化的趋势越来越强!

   首先是光刻机领域,上海微电子已经实现28nm光刻机的量产,预计2022年可以交付,这款光刻机的性能与荷兰ASML的DVU光刻机相似,可以生产14nm制程工艺的芯片。

   另外,美国虽然断供了最先进的EVU光刻机,但是制程工艺相对较低的DVU光刻机却没有断供,而荷兰ASML也明确表态过,EVU光刻机也可以用于7nm工艺芯片,英特尔的10nm工艺、台积电第一个7nm芯片,都是用DVU光刻机实现。

   这意味着,2022年,现有的光刻机技术或许能够提前量产华为所需的7nm芯片,打破美国封锁。

   而生产7nm工艺芯片所需要的ArF光刻胶,在7月2日就已经有国外企业向南大光电订购了,这意味着半导体光刻胶原材料也实现了自主化。

   另外,南大光电,容大感光、上海新阳等国内企业,也在持续研发高端光刻胶,争取在现有技术上进一步突破,追上日本的光刻胶技术。

   剩下的6种完全依赖进口的原材料,国内的企业肯定也已经发现了商机,正在朝着国产化转变;最关键的两项技术突破后,中国实现手机芯片国产化的日子也就不远了。

   空谈误国、实干兴邦,中国的半导体行业,正在默默地奋力追赶,一如这次南大光电突然给市场来个惊喜一样,未来还将会看到更多的一鸣惊人的突破。

   中国半导体,正在以惊人的速度崛起!

   可用于7nm芯片光刻胶通过客户验证,南大光电巨量收涨8%

   观察者网·大橘 财经 讯(文/吕栋 /尹哲)在集成电路制造领域,光刻机被称为是推动制程技术进步的“引擎”,而光刻胶就是“燃料”。

   未来几年,随着中芯国际、长江存储、长鑫存储等晶圆厂进入产能扩张期,高端光刻胶的国产化替代迎来重要窗口。

   12月17日晚间,南大光电公告披露,其控股子公司宁波南大光电材料有限公司(下称:宁波南大光电)自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,可用于90nm-14nm甚至7nm技术节点。

   “本次产品的认证通过,标志着‘ArF光刻胶产品开发和产业化’项目取得关键性的突破,成为国内通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶,为全面完成项目目标奠定坚实的基础。”公告中写道。

   南大光电内部人士今天在接受观察者网采访时透露,ArF光刻胶生产线已建成,可根据客户需要量产。

   受上述消息影响,创业板上市的南大光电今天高开近14%,最终收涨8%。

   不过,需要注意的是,截至今年上半年,光刻胶业务还未给南大光电贡献营收。该公司坦言,ArF光刻胶存在稳定量产周期长、风险大等特点,后续是否能取得下游客户订单存在较多不确定性。

   最近三年,南大光电净利润增速骤降,2019年扣非净利润仅为上市前的五分之一。

   公告截图

   量产阶段仍存诸多风险

   观察者网梳理相关资料发现,光刻胶是一种对光敏感的混合液体,可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。

   依据使用场景,待加工基片可以是集成电路材料、显示面板材料或者印刷电路板(PCB)。

   因此,按应用领域分类,光刻胶又可分为PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶及其他光刻胶。目前,国产光刻胶以PCB用光刻胶为主,显示面板、半导体用光刻胶供应量占比极低。

   浙商证券2020年4月研报截图

   作为技术难度最大的光刻胶品种,半导体光刻胶也是国产与国际先进水平差距最大的一类。

   长时间以来,为满足集成电路对密度和集成度水平的更高要求,光刻机不断通过缩短曝光波长的方式,提高极限分辨率。

   目前,光刻机光源波长由紫外宽谱逐步缩短至g线nm)、i线nm),以及最先进的EUV(

   本次南大光电通过客户认证的光刻胶,就是ArF光刻胶。

   国元证券2019年1月研报截图

   南大光电表示,ArF光刻胶材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺,广泛应用于高端芯片制造(如逻辑芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存储器和云计算芯片等)。

   认证评估报告显示,“本次认证选择客户50nm闪存产品中的控制栅进行验证,宁波南大光电的ArF光刻胶产品测试各项性能满足工艺规格要求,良率结果达标。”

   南大光电认为,本次通过客户认证的产业化意义大。

   “本次验证使用的50nm闪存技术,在特征尺寸上,线nm光刻需求,孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求,该工艺的光刻胶在业界有代表性。”公告中称。

   至于为何选在50nm闪存产线验证, 南大光电内部人士向观察者网表示 ,该公司产品分别在不同客户处验证,有逻辑有存储的。因为存储的先通过,就先公告,其他的还在努力中。

   不过,该人士并未向观察者网透露,公告中的客户是国内或者国外厂商。

   IC光刻流程图

   目前,全球光刻胶市场基本被美日大型企业垄断,中国大陆内资企业所占市场份额不足10%。

   2019年,日韩贸易争端中,日本就曾通过禁运光刻胶对整个韩国半导体行业造成打击。

   为支持国内企业加大光刻胶开发力度,2000年以来,我国出台多项政策支持半导体行业发展。

   2006年,国务院在《国家中长期科学和技术发展规划纲要(2006-2020年)》中提出《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》项目,因次序排在所列16个重大专项第二位,在业内被称为“02专项”。

   公告显示,“ArF光刻胶产品开发和产业化”就是南大光电承接国家“02 专项”的一个重点攻关项目。

   券商统计的信息显示,南大光电2017年承接的ArF光刻胶项目总投资额为6.6亿元,其中国拨资金1.9亿元,地方配套资金1.97亿元,使用上市时的超募资金1.5亿元及其他自筹资金。

   该项目拟通过3年达到年产25吨ArF干式和浸没式光刻胶产品的生产规模,预计达产后年销售收入平均为1.48亿元,实现净利润0.6亿元,投资回收期6.8年(包含3年建设期),内部报酬率为18%。

   截至今年上半年,光刻胶业务尚未给南大光电贡献营收。

   该公司在公告中表示,ArF光刻胶产品与客户的产品销售与服务协议尚在协商之中。

   “尤其是ArF光刻胶的复杂性决定其在稳定量产阶段仍然存在工艺上的诸多风险,不仅需要技术攻关,还需要在应用中进行工艺的改进、完善,这些都会决定ArF光刻胶的量产规模和经济效益。”

   深交所互动易截图

   最近三年净利润增速骤降

   在ArF光刻胶贡献收入前,南大光电营收

   2020年半年报介绍,MO源系列产品是制备LED、新一代太阳能电池、相变存储器、半导体激光器、射频集成电路芯片等的核心原材料,在半导体照明、信息通讯、航空航天等领域有极其重要的作用。

   而电子特气是“集成电路、平面显示器件、化合物半导体器件、LED、太阳能电池、光纤等电子工业生产中必不可少的基础和支撑性材料”。

   今年5月,南大光电董事长兼总经理冯剑松在业绩说明会上称,该公司将力争实现“MO源全球第一,电子特气国内一流,193nm光刻胶成功产业化”。

   上半年,南大光电特种气体业务营收1.88亿元,同比增长274.15%;MO源产品实现营收0.68亿元,同比下滑23.55%;两项业务占比分别为 71.73% 、25.82%。

   事实上,最近几年,南大光电特种气体业务持续增长。2017-2019年分别贡献0.36亿、0.78亿、1.64亿元的收入,营收占比也从20.16%增长至51.82%。

   与此同时,该公司的MO源业务并不太稳定,2018年产量和销量均创 历史 最好水平后,2019年该业务销售收入下滑2.87%。

   2017年以来,南大光电整体营收呈增长态势,从1.77亿元增长至2019年的3.21亿元,净利润从3384万元增长至5501万元,但净利润增速从348%骤降至7.36%。

   “i问财”截图

   扣除非经常性损益后,南大光电2017年-2019年的净利润分别为0.2亿元、0.37亿元、0.368亿元。而登陆创业板之前的2011年,该公司还实现扣非净利润1.76亿元,是去年扣非净利的近5倍。

   同期,南大光电研发投入分别为3844万元、3735万元、6585万元,占营收的比重分别为21.69%、16.37%、20.49%,占净利润比重分别为114%、73%、120%。

   今年前三季度,南大光电营收大幅增长96.15%,归母净利润增长97%,但主要是出售北京科华股权等带来的非经常性损益大幅增加。

   当季,该公司扣非后净利润下滑84.84%,该公司称主要是摊销股权激励成本、研发费用投入及奖金计提增加所致;经营活动产生的现金流量净额同比下滑189.52%,主要是政府补助款较上年减少及本期拨付前期收到的项目经费给联合单位所致。

   三季度财报截图

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